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<abstract abstract-type="short" xml:lang="en"><p><![CDATA[The present work aims to the production and characterization of amorphous (a-Si:H)/microcrystalline silicon based semi-transparent solar cells for windows application. The produced solar cells structure is as follows: glass/TCO/p/i’/i/n/metal. The semiconductor layers p, i’, i e n were obtained by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) of 27.12MHz for the intrinsic i layer and 13.56MHz for the remaining layers. The i’ layer is a buffer layer that prevents the diffusion of impurities from the p layer to the intrinsic layer. Gallium doped Zinc oxide was used as the transparent conductor oxide (TCO) due to its chemical stability and natural surface texture. After process optimization, the transparent solar cells were produced and characterized. Patterns/geometries to produce these devices were initially studied on 4x4 cm² substrates in order to insure at least 50% of transmittance. The techniques used to define the cells patterns were photolithography, chemical and dry etching. Taking into account the results obtained (characterization), process cost and reliability, the geometry for production of semi-transparent solar cells on 10x10 cm² substrates was defined. At the final stage of this project, a prototype of a window with an incorporated 10x10 cm² semi-transparent solar cell was produced. The combination of the semi-transparent solar cell with an electrochromic window proved to be the greatest challenge of the whole process.]]></p></abstract>
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<kwd lng="pt"><![CDATA[células solares semi-transparentes]]></kwd>
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</front><body><![CDATA[ <p align="center"><b>Dia Mundial dos Materiais 2008</b></p>     <p align="center"><b>1&ordf; Men&ccedil;&atilde;o Honrosa SPM</b></p>     <p align="center">&nbsp;</p>     <p align="center"><b>Células solares de silício micro/nanocristalino</b></p>     <p align="center">&nbsp;</p>     <p align="center">L&uacute;cia P. Gomes</p>     <p align="center">&nbsp;</p>     <p align="center">CENIMAT/I3N, Departamento de Ciência dos Materiais, Faculdade    de Ciências e Tecnologia da Universidade Nova de Lisboa e CEMOP/UNINOVA. Campus    da Caparica, 2829-516 Caparica, Portugal. </p>     <p align="center"><a href="mailto:lig10801@fct.unl.pt">lig10801@fct.unl.pt</a></p>      <p>&nbsp;</p>      ]]></body>
<body><![CDATA[<p>&nbsp;</p>          <p><b>RESUMO: </b></p>     <p>Este trabalho teve por objectivo produzir e caracterizar células solares semi-transparentes    de silício amorfo (a-Si:H) /microcristalino para aplicação em janelas.</p>       <p>As células solares produzidas têm   a seguinte estrutura: <i>vidro/ TCO/ p/ i´/ i/ n/ metal</i>. As camadas   semicondutoras p, i´, i e n foram produzidas por deposição química de vapores   assistida por plasma (PECVD – Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) de   27,12 MHz (camada intrínseca – i) e de 13,56 MHz (camadas p, i, e n). A   camada i´ é uma camada de bloqueio (buffer layer) à difusão de impurezas da   camada p para a camada intrínseca.</p>       <p>O TCO (transparent conductor   oxide) usado foi o óxido de zinco dopado com gálio (GZO), devido à sua   estabilidade química e à sua textura natural de superfície. </p>       <p>Após optimização do processo,   seguiu-se a produção e caracterização de células solares semitransparentes.   Inicialmente estudaram-se padrões e geometrias para produzir células solares   semi-transparentes em substratos de 4x4 cm<sup>2</sup>, de modo a garantir   uma transmitância nunca inferior a 50%. Para se obter a geometria pretendida   na célula foram utilizadas as técnicas de fotolitografia, erosão química via   húmida e via seca.</p>       <p>Tendo em conta os resultados da   caracterização das células, da transmitância e ainda da fiabilidade e custo   do processo, foi definida a geometria/padrão para produção de células semi-transparentes   em substratos de 10x10 cm<sup>2</sup>.</p>       <p>Com o culminar do trabalho foi   realizado um protótipo com a incorporação da célula semi-transparente de   10x10 cm<sup>2</sup> no caixilho de uma janela. A produção de um demonstrador   de uma janela inteligente, resultante da integração da célula solar semi-transparente   com uma janela electrocrómica, foi um grande desafio deste trabalho.</p>        <p><b>Palavras chave: </b>células solares semi-transparentes; silício microcristalino,    silício nanocristalino, silício amorfo, janela inteligente.</p>       <p><b>&nbsp;</b></p>       ]]></body>
<body><![CDATA[<p>&nbsp;</p>         <p><b>ABSTRACT: </b></p>     <p>The present work aims to the production and characterization of amorphous (a-Si:H)/microcrystalline    silicon based semi-transparent solar cells for windows application.</p>     <p>The produced solar cells structure is as follows: <i>glass/TCO/p/i’/i/n/metal</i>.    The semiconductor layers <i>p</i>, <i>i’</i>, <i>i</i> e <i>n</i> were obtained    by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) of 27.12MHz for the intrinsic    <i>i</i> layer and 13.56MHz for the remaining layers. The <i>i’</i> layer is    a buffer layer that prevents the diffusion of impurities from the <i>p</i> layer    to the intrinsic layer.</p>     <p>Gallium doped Zinc oxide was used as the transparent conductor oxide (TCO)    due to its chemical stability and natural surface texture. </p>     <p>After process optimization, the transparent solar cells were produced and characterized.    Patterns/geometries to produce these devices were initially studied on 4x4 cm<sup>2</sup>    substrates in order to insure at least 50% of transmittance. The techniques    used to define the cells patterns were photolithography, chemical and dry etching.</p>     <p>Taking into account the results obtained (characterization), process cost and    reliability, the geometry for production of semi-transparent solar cells on    10x10 cm<sup>2</sup> substrates was defined.</p>     <p>At the final stage of this project, a prototype of a window with an incorporated    10x10 cm<sup>2</sup> semi-transparent solar cell was produced. The combination    of the semi-transparent solar cell with an electrochromic window proved to be    the greatest challenge of the whole process.</p>     <p><b>Keywords: </b> semi-transparent solar cells; µc/nc silicon; amorphous silicon,    intelligent windows.</p>     <p>&nbsp;</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>&nbsp;</p>      <p>Texto completo dispon&iacute;vel apenas em PDF.</p>     <p>Full text only available in PDF format.</p>     <p>&nbsp;</p>     <p>&nbsp;</p>        <p><b>BIBLIOGRAFIA</b></p>      <p>&nbsp;</p>      <p>[1] <a href="http://www.aream.pt/" target="_blank">http://www.aream.pt</a>    (acedido em Novembro de 2007)</p>      <p>[2] <a href="http://pt.wikipedia.org/wiki" target="_blank">http://pt.wikipedia.org/wiki</a>    (acedido em Novembro de 2007)</p>      <p>[3] &quot;Semicondutores Amorfos,&quot; Universidade Nova de Lisboa <b>Apontamentos    de aulas</b> (2002).</p>      ]]></body>
<body><![CDATA[<p>[4] Hugo Águas, &quot;Influência da Configuração dos Eléctrodos de R.F. de    um Reactor de PECVD nas Propriedades dos Plasmas,&quot; FCT-UNL <b>Tese de Mestrado</b>    (1999).</p>      <p>[5] Leandro Raniero, &quot;Produção e Caracterização de Células Fotovoltaicas    de Silício Nano-Estruturado produzido por plasma de 27,12MHz,&quot; <b>Tese    de Doutoramento</b>, FCT-UNL (2005).</p>      <p>[6] R. F. Martins, &quot;A Conversão de Energia de Origem Fotovoltaica Baseada    em Células Solares de Silício Monocristalino; Policristalino; Amorfo,&quot;    FCT-UNL (1985).</p>      <p>[7] Rui M.G.Castro, &quot;Energias Renováveis e Produção Descentralizada,&quot; Secção de Energia, IST (2007).</p>      <!-- ref --><p>[8] R. W. Miles, &quot;Photovoltaic solar cells: Choice of materials and production    methods,&quot; Vacuum <b>80</b> (10), 1090-1097 (2006).&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=143639&pid=S0870-8312200900010000400001&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><p>[9] A. M. Ali and S. Hasegawa, &quot;Effect of hydrogen dilution on the growth    of nanocrystalline silicon films at high temperature by using plasma-enhanced    chemical vapor deposition,&quot; Thin Solid Films <b>437</b> (1-2), 68-73 (2003).</p>      <p>[10] T. Matsumoto, M. Kondo, S. V. Nair et al., &quot;Inverted Staebler-Wronski    effect in nanocrystalline silicon,&quot; Journal of Non-Crystalline Solids <b>227</b>,    320-323 (1998).</p>      <p>[11] S. Halindintwali, D. Knoesen, R. Swanepoel et al., &quot;Improved stability    of intrinsic nanocrystalline Si thin films deposited by hot-wire chemical vapour    deposition technique,&quot; Thin Solid Films <b>515</b> (20-21), 8040-8044 (2007).</p>       ]]></body><back>
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